规格：
1、双工艺气瓶，半自动
2、特气柜尺寸：W1100宽×D500深×H1800高
3、外吹扫：PN2，1/4"MVCR接口
4、抽真空：GN2，1/4"MVCR接口
5、气动隔膜阀：CDA驱动，1/4"卡套接口
6、VENT排空管：1/2MVCR接口
7、工艺气体出口：2个，1/4"MVCR接口
8、盘面规格：1/4"盘面
9、标准配备：防爆防腐柜体，防爆自锁门，防爆玻璃观察窗，泄漏报警，远程切断，欠压报警，主材SS316L
10、柜体换气量:4"排气口，1200次/小时
11、控制柜尺寸：W550宽×D230深×H320高
12、控制柜电源：220VAC，50HZ，200W，漏电保护
13、操作界面：PLC触控屏人机界面
14、选配：工艺气瓶重量监控器，工艺气体超压报警，盘面加热及温控装置，报警信号手机短信与电话通知
适用范围：
应用在 MOCVD、PECVD、刻蚀机等配套设备上，适用于高校实验室、材料分析实验室、芯片半导体、光伏太阳能电池、生物医药工程、微电子新材料等行业。
